6款眼膜简单自制
在我们平时食用的蔬菜水果中,有很多都可成为“眼膜”的好原料,经过稍稍的加工,就可以变成眼膜。用这些新鲜的天然品经常做做眼部护理,对眼睛会有很好的护理作用。
丝瓜眼膜:丝瓜是护肤的好原料。取未成熟的丝瓜去皮,去籽,捣成泥,涂在眼部,有抗过敏,洁肤,防皱的效果。护眼功效:具有抗过敏、洁肤的功效,能有效预防眼部细纹。
蜂蜜蛋黄膜:把一个蛋黄加入一匙蜂蜜调匀,再加两滴橄榄油,有润肤防皱之效,每周可做1-2次。护眼功效:既保湿又锁水,还能去除眼部皱纹。
牛奶眼膜:先把牛奶放入冰箱冰镇,再用棉片浸冰镇后的脱脂牛奶,敷在眼皮上,每天早晚2次,每次10分钟,可消除眼袋。护眼功效:消除眼袋,去除黑眼圈。
茶叶眼膜:1、用两个茶叶包(红茶除外),侵在冷水中,闭眼放在眼睛上15分钟后取下,每周一次,可治疗黑眼圈。2、用热水泡甘菊茶,放凉,用棉片侵茶敷眼15分钟,每周2次,可消除眼袋。
银耳眼膜:把银耳熬成浓汁,装入小瓶内冰镇,每次取3-5滴涂于眼角和眼周,有润白去皱,增强皮肤弹性的作用,每日一次。功效:增强皮肤弹性,预防眼部皱纹。
黄瓜蛋清眼膜:将黄瓜榨汁与一个蛋清混合调匀,再加2滴白醋,涂于眼周有滋润和去皱的功效,每周1-2次。护眼功效:去除眼周细纹、鱼尾纹,增加皮肤弹性。
薯仔神采眼膜
材料:薯仔 1 个 苹果 1/4 个
做法:
⒈以撹拌机把材料打成糊状。
⒉闭上眼睛,把糊敷在眼部及眼四周。
⒊15分钟后以冷水洗掉眼膜。
薯仔去黑眼圈效果显著,加上萍果润而不腻的精华,能收紧眼部四周的肌肤。
甘菊奶眼膜
材料:洋甘菊1/2 茶匙 沸水 2 汤匙 鲜奶 2 汤匙
做法:
⒈洋甘菊泡进沸水里约3 分钟,隔渣留水。
⒉待凉后与鲜奶混和。
⒊将两片化妆棉完全吸收混合液,然后敷在眼上。
⒋15分钟后拿掉化妆棉,以冷水冲一冲便可。
可令眼睛回复神采,电力过人
蓝莓眼部紧肤液
材料:蓝莓 10 粒
做法:
⒈蓝莓捣成泥,敷在眼部约15分钟。
⒉以冷水洗掉便可。
能促进眼部微血管循环,减退黑眼圈,眼底的油脂粒及干纹
青瓜滋润眼膜
材料:青瓜 4 片 干玫瑰花 5 粒(或鲜玫瑰花瓣10片) 沸水 2 汤匙
做法:
⒈干玫瑰以少许沸水泡软。
⒉把玫瑰连水与青瓜一同放进搅拌机打成糊状。
⒊敷在眼皮及眼四周,再盖以化妆棉以防滴漏。
⒋15-20分钟后以冷水洗去。
可舒缓眼部疲劳及不适,去除眼纹
干菊花敷眼睛清爽滋养
⒈将干菊花泡在开水里完全沉淀
⒉用卫生纱布滤掉茶叶渣,
⒊把两片化妆棉放到刚才过滤好的茶叶水里,浸泡十分钟
⒋拿出化妆棉敷在眼睛上,闭着眼睛休息个二十分钟的样子
⒌拿起化妆棉,给眼睛周围轻轻按摩一下
一、起床后按摩
起床之后是去眼袋和黑眼圈的佳时机,洗干净面部以后,用双手做顺时针方向打圈,按摩眼部周围的肌肤,大概按摩五分钟即可。可以促进眼部周围的血液循环,消除眼袋。
二、睡觉前涂抹维生素E胶囊
如果你的眼袋本来就很重,每晚睡觉之前可以用维生素E胶囊,将中间的粘液去除对眼部下的皮肤进行为期四周的涂敷、按摩。常常使用能达到消除眼袋的效果。
三、鸡蛋按摩
早上起来眼睛常常是浮肿状态,可以趁着洗脸的时候煮个水煮蛋,然后去壳用小毛巾包住,合上双眼用鸡蛋按摩眼睛四周。加快眼周肌肤血液循环,改善黑眼圈和眼袋。
四、茶叶敷眼
简单且有效的方法,就是用喝完的绿茶茶叶,用纱布包好然后放进冰箱里,早上起来把布包敷在眼睛上,对去眼袋有不小的效果,即使不能完全去除也能减轻眼睛的浮肿。
五、自制小黄瓜眼膜
黄瓜是美容护肤圣品,用来制成面膜眼膜都有很不错的效果,把切片的小黄瓜敷上眼部,用来镇静肌肤帮助减轻黑眼圈的症状。不过千万记住,敷完小黄瓜眼膜的皮肤干净细薄,容易晒伤,所以要躲避阳光,以免消除了眼袋却多了雀斑。
六、温水敷眼
把干净的毛巾用温热的水浸透,然后敷于眼部。注意水温不可过热,否则会导致皮肤容易长皱纹。然后再将毛巾放入冷水中,敷于眼部,反复如此2遍。可加速眼部血液循环,缓解眼袋浮肿。
七、晚上不适宜饮太多水
睡前半小时尽量别喝水,这有可能影响眼部的循环,导致排水不畅形成眼袋。我们可以通过打开眼部穴位,来实行泄洪的计划。闭上眼睛,平躺在床上,用食指轻轻按压攒竹穴,也就是眉头下方的凹陷处,可以很好地缓和眼睛的疲劳,帮助多余水分的排出。
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。
用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。
二、工作原理
在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。
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