氧化铈抛光粉哪一种好？

氧化铈抛光粉好，无论从颗粒度化学成分稳定性都是氧化铈来的好，但是价格偏贵，氧化铝的多种形态造成了它的物理和化学物质的不确定性，精度要求高的情况必须要用氧化铈

在工业领域，抛光粉是重要的研磨抛光材料，根据不同的性质，抛光粉可以分为无机抛光粉、金属抛光粉和塑料抛光粉等。稀土抛光粉是无机抛光粉中的一类，具有粉体粒度均匀、抛光质量好效率高、使用量少、寿命长、易清洗，对环境不易造成污染等优点，被人们广泛应用在液晶显示类产品的抛光加工中。同时，与其它的稀土抛光粉相比，稀土抛光粉产品中的饰基抛光粉抛光效率更高，抛光表面更为光滑，被人们称为“抛光粉之王”，是一类重要的稀土抛光粉产品，具有很好的发展前景。以下我们重点讨论饰基稀土抛光粉的分类。对于饰基稀土抛光粉，氧化铈抛光粉的含量、微观形貌、晶型结构、以及粉体的粒度分布都对抛光粉的性能起决定性的影响作用，因此，我们通常按照稀土抛光粉中氧化铈抛光粉含量以及粉体的粒度和粒度分布来对饰基稀土抛光粉进行分类。饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉,饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉，其中氧化铈抛光粉也是在抛光过程中起主要作用的物质，所以根据氧化铈抛光粉量的高低我们将钵基稀土抛光粉划分为高饰稀土抛光粉、中饰稀土抛光粉、低饰稀土抛光粉这三大类别。

高饰稀土抛光粉，CeO2含量99%, REO>98%，平均粒度在1μm-6μm。此类产品包括有A-8型，饰粉型，高饰品一1型三个品种。高饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味极高，抛光性能好，寿命长，在国内主要应用于硬质玻璃如精密光学镜头和石英的高速、长时间循环抛光。其生产工艺大致分为:1、由氯化稀土加工出的氢氧化饰产物为原材

料的制备工艺，2、以氟碳饰矿锻烧加工出的富饰产物为原材料的制备工艺。高饰稀土抛光粉的生产成本和价格较高，国内使用量较小。

中饰稀土抛光粉，氧化铈抛光粉约80%^-85%, REO为90%，平均粒度在04μm-13μm,产品含氟量3%-6%。此类产品包括有739型一个品种。中饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味较高，相对于高饰稀土抛光粉，所需浆液浓度在降低10%时，抛光工艺中所需的速率将提高30%，使用的抛光粉寿命能增加35%，得到抛光品表面的光洁度更能提高一个等级，此类产品较适用于对中等精度中小球面的光学镜头的抛光。对于中饰稀土抛光粉，在我国的产量及用量都不是很大，有待于继续开发。

低饰稀土抛光粉，又称为饰组混合稀土抛光粉。氧化铈抛光粉约48%-50%, RE085%一95%，平均粒度在04μm-13μm，其中有些产品如797, 877型含氟4%-8%，此类产品包括有771, 795, 797, 817, 877, C-1和H-500型等共10个品种。低饰稀土抛光粉的CeO2品味较低，初始抛光能力与高级饰系稀土抛光粉相比几乎差不多，但使用寿命短，此类产品中的771型应用在光学镜片、金属制品的抛光;797型应用在电视机显像管、平板玻璃等的抛光。低饰稀土抛光粉的生产成本低，价格便宜。

稀土抛光粉中的主要成分为氧化铈，一般情况下都是根据其中氧化铈的含量划分等级。抛光粉中的氧化铈含量越高，它的抛光能力越强，寿命越长，相应的价格也就会高。反之，铈含量低，价格也就低。它的初始抛光能力和高铈产品基本没有差别，但是其寿命短。以不同的原料、工艺制备的抛光粉中氧化铈的含量也不同!大理石晶面抛光粉SH-98（晶面、防护二合一）工艺原理晶面处理就是利用晶面处理药剂，在专用晶面处理机的重压及其与石材磨擦产生的高温双重作用下，通过物化反应，在石材表面进行结晶排列，形成一层清澈、致密、坚硬的保护层，起到增加石材保养硬度和光泽度的作用，本品为独特工艺配方，使用石材表面产生化学双重反应，能同时使石材增亮、加硬、防护，并具有防滑、防脚印、防划伤的保护作用。晶面处理工艺特点1．光泽度高，可达95度以上，基本达到新出厂石材的标准。2．硬度高，不易划伤，一般硬物（或自然行走）不会对石材造成磨损。3．均匀、平整、光滑、天然、清澈，有镜面感觉，显现石材天然色泽。4．表面干爽，不吸附尘埃，尘埃沙粒仅停留在表面，易彻底清理。应用行业：特别适用于大理石、水磨石、石灰石等含钙量多的石材，也适用于花岗岩表面的高光、晶面、防护处理，处理后的板材表面晶莹剔透、色彩饱满、光泽度高、板面硬度提高、耐磨损、耐粉化不易褪光。使用用法：1、本品最佳使用效果的三个前提：地面平整、干净、干燥。2、取本品抛光粉末加水调成浆料，比例为1：1-2，直接抛干，即可达到晶莹透亮的效果,也可湿抛

树脂研磨石主要原料是不饱和树脂，另外加入了少量的棕刚玉砂和氧化铝砂，是一种有消耗的研磨材料。树脂研磨石根据表面的粗糙程度，分为不同的目数。常用的有180#、240#、320#、600#，还有更大的目数可供选择，目数越小切削力越大，磨耗也越大。

抛光粉有一定的异味。

抛光粉是由化学成分组成的，闻久了可能会发生中毒反应。

抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光，氧化铁也可用于玻璃，但速度较慢，常用于软性材料的抛光。石材的抛光常使用氧化锡，瓷砖的抛光常使用氧化铬。

氧化饰抛光粉性质总结有以下几点：

(1)晶体结构

Ce有三种不同氧化物．立方萤石结构Ce02、立方萤石结构Ce2O3和六方结构Ce2O3。其中，室温下能够稳定存在的是立方萤石结构Ce02，是氧化饰抛光粉中的主要组成部分，Ce配位数是8, O配位数为4，晶格参数为5411A。

(2)化学组成

氧化饰抛光粉中的主要有效成分是Ce02，另外含有少量其他稀土氧化物(如La203,Pr6011, Nd203等)及添加元素F, S等。一般的，稀土抛光粉中Ce02含量越高，抛光能力越强;但也有研究发现[[41]，随着Ce02含量的增大，抛光粉抛光性能提高的趋势变缓慢，含85% Ce02的抛光粉比含40% Ce02的抛光粉，其性能仅提高15%。由此可见，影响稀土抛光粉抛光性能的因素是多方面的，化学纯度对抛光性能的影响并非唯一因素。

(3)粒度与粒度分布

所有市售抛光粉对粒度大小及分布都有严格的控制[[42]，粒度必须符合一定的范围，才能达到既能快速抛光，又不产生机械划痕的效果。通过将不同粒度大小和分布的Ce02抛光粉对K9玻璃和ZF1玻璃进行抛光发现，颗粒大小在10~10μm之间时，抛光效果较好，且10~30μm间颗粒少于13%时，对玻璃不会产生机械划痕[[43]

抛光粉的粒度指中位粒径D50或平均粒径Dmean，一般通过激光散射法测定，反映的是多个细小颗粒团聚后形成二次颗粒的粒径大小。在抛光压力的作用下，团聚的大颗粒会被碾压成更小的颗粒;因此，团聚粒径的大小对抛光粉的抛光性能有显著影响

(4)硬度

Ce02抛光粉的硬度是其化学键强度、晶体结构等微观性质的宏观反应。对于化学机械抛光过程而言，Ce02抛光粉的硬度必须达到合适范围才能符合要求:硬度过小，抛光过程中易被碾压破碎，不能有效磨削抛光工件，抛光效率会降低;硬度过大，颗粒表面的尖锐棱角会对抛光工件表面造成划伤，严重破坏抛光产品质量

由于Ce02抛光粉粒度小，对其硬度的测量存在一定困难，目前可以用纤维硬度计测量，但误差较大。一般，Ce02抛光粉的硬度与焙烧温度和冷却方式有关，焙烧温度高会提高其硬度，采取不同的冷却方式也会改变其硬度

(5)化学活性

Ce02抛光粉的化学活性主要是指Ce02对抛光工件表面的化学吸附能力。一般，化学活性与Ce02表面的晶格缺陷有关，表面缺陷和悬键的存在会提高Ce02的表面活性，增强抛光粉对抛光工件表面的吸附能力。

Ce02的化学活性还与焙烧温度和冷却方式有关，选择合适的焙烧温度，会使Ce02晶粒生长到适合抛光的粒度大小，此时比表面积较大，表面活性强;另外，采取快速冷却方式可以造成晶粒瞬间停止生长，晶格缺陷增多，化学活性提高。有研究者采用水冷方式制备Ce02抛光粉，其抛光速率比随炉冷却提高10% 。来自wwwdgmingkangcom

190度热水。

2聚乙二醇-6000

3聚乙二醇-600

4氧化铝粉。

5碳酸钙。

6柠檬酸。

以上做出来的是膏状物，容易使用，不产生粉尘。配比自己通过实验选择。