能。镀钯铜丝由9999%高纯度铜材料经过添加一定比例的微量元素而制成的镀钯键合丝,有助于更好地逐步提升中国钯铜丝的技术水平、有效地指导键合丝生产企业和半导体封装企业对键合用镀钯铜丝的生产和使用。镀钯铜丝价值一斤100千克,所以镀钯铜丝能卖钱。
一光学镀膜材料(纯度:999%-999999%)
1 高纯氧化物:
一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、Nb2O5,三氧化二铝、Al2O3,三氧化二钪、Sc2O3,三氧化二铟、In2O3,二钛酸镨、Pr(TiO3)2,二氧化铈、CeO2,氧化镁、MgO,三氧化钨、WO3,氧化钐、Sm2O3,氧化钕、Nd2O3,氧化铋、Bi2O3,氧化镨、Pr6O11,氧化锑、Sb2O3,氧化钒、V2O5,氧化镍、NiO,氧化锌、ZnO,氧化铁、Fe2O3,氧化铬、Cr2O3,氧化铜、CuO等。
2 高纯氟化物:
氟化镁、MgF2,氟化镱、YbF3,氟化钇、LaF3,氟化镝、DyF3,氟化钕、NdF3,氟化铒、ErF3,氟化钾、KF,氟化锶、SrF3,氟化钐、SmF3,氟化钠、NaF,氟化钡、BaF2,氟化铈、CeF3,氟化铅等。
4 混合料:
氧化锆氧化钛混合料,氧化锆氧化钽混合料,氧化钛氧化钽混合料,氧化锆氧化钇混合料,氧化钛氧化铌混合料,氧化锆氧化铝混合料,氧化镁氧化铝混合料,氧化铟氧化锡混合料,氧化锡氧化铟混合料,氟化铈氟化钙混合料等混合料
3 高纯金属类:
高纯铝,高纯铝丝,高纯铝粒,高纯铝片,高纯铝柱,高纯铬粒,高纯铬粉,铬条,高纯金丝,高纯金片,高纯金,高纯金粒,高纯银丝,高纯银粒,高纯银,高纯银片,高纯铂丝,高纯铪粉,高纯铪丝,高纯铪粒,高纯钨粒,高纯钼粒,高纯单晶硅,高纯多晶硅,高纯锗粒,,高纯锰粒,高纯钴,高纯钴粒,高纯钼,高纯钼片,高纯铌,高纯锡粒,高纯锡丝,高纯钨粒,高纯锌粒,高纯钒粒,高纯铁粒,高纯铁粉,海面钛,高纯锆丝,高纯锆,海绵锆,碘化锆,高纯锆粒,高纯锆块,高纯碲粒,高纯锗粒, 高纯钛片,高纯钛粒,高纯镍,高纯镍丝,高纯镍片,高纯镍柱,高纯钽片,高纯钽,高纯钽丝,高纯钽粒,高纯镍铬丝,高纯镍铬粒,高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等
5 其他化合物:
钛酸钡,BaTiO3,钛酸镨,PrTiO3,钛酸锶,SrTiO3,钛酸镧,LaTiO3,硫化锌,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化锌,ZnSe,硫化镉。
6 辅料:
钼片,钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
以钯为基加入其他元素组成的合金。 有钯镍合金等,例如:
(1)钯金合金Pd-Au合金,含20%以上金Au的合金不溶于硝酸,由于这类合金的熔点高和耐蚀性高,故用来制造化工器皿;含20%Pd-30%Au的合金用于制造人造纤维拉模;
(2)钯银合金Pd-Ag合金,含50%以下银Ag的合金的耐蚀性接近于钯,添加金和铂能提高合金的性能,含50%Ag和10%Pt或Au的Pd-Ag合金可用来制造光学仪器耐蚀零件和表壳;
(3)钯铱合金Pd-Ir合金,铱Ir能显著提高Pd的耐蚀性,Pd-Ir合金用作电接触点。
方法提要
试样与混合熔剂于1100℃熔融,铂族元素进入镍扣与基体分离。用盐酸溶解镍扣,滤出不溶于盐酸的铂族元素硫化物,在封闭溶样器中用王水溶解,ICP-MS测定,其中锇用同位素稀释法测定。取样20g时测定下限为001~02ng/g。
仪器和装置
电感耦合等离子体质谱仪。
试金用高温炉、300mL黏土坩埚及铸铁模具。
负压抽滤装置滤膜孔径045μm。
PFA封闭溶样器容积10mL。
试剂
锍镍试金熔剂及配方见表8440。
表8440 锍镍试金熔剂配比(单位:g)
盐酸。
硝酸。
王水盐酸和硝酸按(3+1)比例混合均匀。
氯化亚锡溶液(1mol/L,介质6mol/LHCl)制备后一个月内使用。
碲共沉淀剂ρ(Te)=05mg/mL称取01072g碲酸钠(Na2TeO4·2H2O)溶解于100mL3mol/LHCl。
钌、铑、钯、铱、铂、金的单元素标准储备溶液ρ(B)=1000μg/mL。
铂标准储备溶液ρ(Pt)=1000μg/mL称取01000g光谱纯(9999%)铂丝,置于100mL烧杯中,加入15mLHCl、5mLHNO3,盖上表面皿,放在电热板上加热溶解后,加入5滴200g/LNaCl溶液,在水浴上蒸干。用盐酸赶硝酸3次。加入10mLHCl和20mL水,加热溶解后移入1000mL容量瓶中,补加90mLHCl,用水稀释至刻度,摇匀。
钯标准储备溶液ρ(Pd)=1000μg/mL称取01000g光谱纯钯丝(9999%),置于100mL烧杯中,加入15mLHCl、5mLHNO3,盖上表面皿,放在电热板上加热溶解后,加入5滴200g/LNaCl溶液,在水浴上蒸干。用盐酸赶硝酸3次。加入10mLHCl和20mL水,加热溶解后移入1000mL容量瓶中,补加90mLHCl,用水稀释至刻度,摇匀。
铑标准储备溶液ρ(Rh)=1000μg/mL称取3856mg光谱纯氯铑酸铵〔(NH4)3RhCl6·1/2H2O〕置于100mL烧杯中,加入20mL水,加20mLHCl,溶解后移入100mL容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀。
铱标准储备溶液ρ(Ir)=1000μg/mL称取5735mg光谱纯氯铱酸铵〔(NH4)2IrCl6〕,置于100mL烧杯中,加入25mL水,再加25mLHCl,温热使其溶解,取下冷却。移入250mL容量瓶中,补加25mLHCl,用水稀释至刻度,摇匀。
钌标准储备溶液ρ(Ru)=1000μg/mL称取822mg光谱纯氯钌酸铵(NH4)2Ru(H2O)Cl5,置于100mL烧杯中,用水润湿,加入05g硫酸亚铁铵、5mL(1+1)H2SO4,搅拌使之溶解,盖上表面皿,于中温电热板上加热至微冒白烟。取下冷却。用水洗烧杯壁及表面皿,再加热至冒白烟并继续保持5min,取下,冷却后用1mol/LH2SO4移入500mL容量瓶中,并稀释至刻度,摇匀。
金标准储备溶液ρ(Au)=1000μg/mL称取纯金01000g,置于50mL烧杯中,加入10mL新配制的王水,放在沸水浴上溶解并蒸发至小体积。移入1000mL容量瓶中,加入100mL王水,用水稀释至刻度,摇匀备用。
组合元素标准储备溶液ρ(B)=100μg/mL由钌、铑、钯、铱、铂、金的单元素标准储备溶液制备组合稀释配制,介质(1+9)王水,存放期限为一年。
组合元素标准工作溶液根据试样中的实际含量稀释为适当浓度的混合元素工作溶液,一般为ρ(B)=500ng/mL,(1+9)王水介质。保存期限为两周。
190Os稀释剂从美国橡树岭实验室购置的稀释剂190Os金属粉末,190Os丰度为9704%,192Os丰度为161%,制备为锇含量适当的溶液(约100ng/mL),介质为05mol/LNaOH。用同位素稀释法,加入普通锇标准溶液,准确标定稀释剂溶液中锇的浓度。也可采用其他适当的锇稀释剂。
内标元素混合溶液含In、Tl各10ng/mL,在测定过程中通过三通在线引入。
仪器调试溶液含Co、In、U各10ng/mL。
分析步骤
1)试样处理。称取10~20g(精确至01g)试样,置于锥形瓶中,加入混合熔剂,充分摇动混匀后,转入黏土坩埚中,准确加入适量锇稀释剂(含锇量与试样中锇相当),覆盖少量熔剂,放入已升温至1100℃的高温炉中熔融15h。取出坩埚,将熔融体注入铸铁模具,冷却后,取出镍扣,转入加有水的烧杯中,待扣松散成粉末后,加入60mLHCl,加热溶解至溶液变清且不再冒泡为止。加入05~1mL碲共沉淀剂。1~2mLSnCl2溶液,继续加热半小时出现沉淀并放置数小时使碲沉淀凝聚,然后用045μm滤膜进行负压抽滤,用(1+4)HCl和水洗涤沉淀数次。将沉淀和滤膜一同转入PFA封闭溶样器中,加入1~25mL王水,封闭。于100℃左右溶解2~3h,冷却后转入10~25mL比色管,用水稀释至刻度,摇匀待测。
2)上机测定。ICP-MS的仪器操作和数据获取参数见表8441。
表8441 电感耦合等离子体质谱仪工作参数
注:以TJAPQ-ExCellICPMS为例。
测量同位素选择:101Ru/115In、103Rh/115In、105Pd/115In(注:含铜高的样品,应选用106Pd或108Pd)、193Ir/205Tl、195Pt/205Tl、197Au/205Tl、192Os/190Os。
点燃等离子体后稳定15min后,用仪器调试溶液进行最佳化,要求仪器灵敏度达到计数率大于2×104s-1。同时以CeO/Ce为代表的氧化物产率<2%,以Ce2+/Ce为代表的双电荷离子产率<5%。
以高纯水为空白,用组合标准工作溶液对仪器进行校准,然后测定试样溶液。在测定的全过程中,通过三通在线引入内标溶液。
在测定过程中,计算机始终在监测内标元素的信号强度,如发生变化(可能因仪器漂移或试样溶液基体的变化引起),则对所有与此内标相关联的元素进行相应补偿。
计算机根据标准溶液中各元素的已知浓度和测量信号强度建立各元素的校准曲线公式,然后根据未知试样溶液中各元素的信号强度,以及预先输入的试样称取量和制得试样溶液体积,直接给出Ru、Rh、Pd、Ir、Pt和Au的含量。同时给出试样溶液中的192Os/190Os比值,根据以下同位素稀释法计算公式计算试样中Os的含量:
岩石矿物分析第四分册资源与环境调查分析技术
式中:w(Os)为试样中Os的质量分数,ng/g;R为测得的192Os/190Os比值;mS为稀释剂加入量,ng;K为试样中Os的原子质量与稀释剂中Os的原子质量之比(使用本190Os稀释剂时,该值为110015);AS为稀释剂中192Os的同位素丰度(本稀释剂为00161);BS为稀释剂中190Os的同位素丰度(本稀释剂为09704);AX为试样中192Os的同位素丰度,其值为041;BX为试样中190Os的同位素丰度,其值为0264;m为称取试样的质量,g。
计算机给出的测定结果没有扣除流程空白。每批试样必须同时进行数份空白分析,最终随同试样上机测定,根据测定结果进行适当的空白修正。
192Os存在192Pt的同量异位素干扰,按下式校正:
岩石矿物分析第四分册资源与环境调查分析技术
式中:I192Os为192Os的计数率;I192为192质量数的总计数率;0023为192Pt和195Pt两种同位素的天然同位素丰度比值。
注意事项
1)本法不适用于含铼高的试样中锇的测定,因为高铼试样中可能存在较高含量的放射成因187Os,而本法是基于普通同位素组成的锇进行稀释法测定。
2)对于超痕量铂族元素的分析,试剂空白是主要的制约因素,作为捕集剂的镍是试剂空白的主要来源,对于低含量试样的准确测定影响很大。羰基镍的空白很低,可以满足要求。若使用一般氧化镍或金属镍试剂,需预先测定其铂族元素空白值进行筛选,并进行必要的提纯。具体提纯方法为:按锍镍试金流程空白处理,其中Ni2O3加入量为15g,硫粉10g,其余试剂量不变。高温熔融后,溶解镍扣,碲共沉淀两次。用045μm滤膜过滤除去铂族元素硫化物沉淀。提纯后的镍溶液在电热板上加热浓缩至较小体积,加入Na2CO3中和至pH8,生成碳酸镍沉淀,水洗至中性,离心,弃清液,将沉淀转入瓷皿,于105℃烘干,再放入高温炉,于500℃焙烧2h,得黑色Ni2O3粉末。提纯后Ni2O3用于超痕量贵金属分析后,再回收每次溶扣后滤液循环使用。在此循环流程中,镍粉中金的含量可能逐渐增高,故按此法提纯的氧化镍不能用于金的分析。
3)本法对金的回收率约为80%。可能的原因为盐酸溶解镍扣时,部分金被溶解,且不能随金属碲完全共沉淀。可根据同时分析的标准物质的结果进行适当校正。
4)用同位素稀释法测定锇是必要的。一方面不能确保封闭溶解过程没有锇的泄漏损失,另一方面由于不同氧化程度的锇在ICP技术中灵敏度的巨大差异,采用标准溶液标化会造成分析结果的极大误差。为了便于保存,锇的标准溶液一般制备为低价(+4价),其灵敏度与其他元素相当。试样在制备过程中可能全部或部分被氧化为高价(+8价),其灵敏度会有不同程度的提高。在同位素稀释法中,从试金开始加入稀释剂,经历了高温熔融,锍镍捕集,HCl溶扣,王水溶渣全流程,试样中锇与加入的稀释剂充分平衡,保持了一致的氧化态,从而保证了分析结果的可靠性。
5)为了提高回收率,在溶解锍镍扣后加入Te使少量溶解的贵金属随碲共沉淀。
Pd化学性质不活泼,常温下在空气和潮湿环境中稳定,加热至
800℃,钯表面形成一氧化钯薄膜。钯能耐氢氟酸、磷酸、高氯酸、盐酸和硫酸蒸气的侵蚀,但易溶于王水和热的硫酸及浓硝酸。熔融的氢氧化钠、碳酸钠、过氧化钠对钯有腐蚀作用。
将硝酸(体积比);盐酸1:3混合,利用Cl-的配位和硝酸的氧化溶解。
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